Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIACF 97329350587

Importo a base di gara680.000 €

Scadenza offerte21/04/2026

ProvinciaGenova

Pubblicazione18/03/2026

Dettaglio del lotto

NaturaForniture

CPV38970000Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici

Criterio di aggiudicazioneQualità/Prezzo (OEPV)Valuta sia il progetto tecnico sia l'offerta economica. Richiede un'offerta tecnica valutata da una commissione.

Contesto di mercato

Come si aggiudica nel mercato di riferimento

Poche gare col ribasso pubblicato nel perimetro provinciale: il quadro si allarga.

Il mercato in Italia

FORNITUREOEPVincluse gare senza criterio dichiaratofamiglia CPV 389Italiaultimi 5 anni340.000–1.360.000 €36 gare con ribasso pubblicato

1,6%ribasso vincente mediano

0,2%3,9%metà dei casi

Il ribasso è quello del vincitore di ogni gara: i ribassi delle altre offerte non sono un dato pubblico. Criterio OEPV: il ribasso pesa solo sul punteggio economico — il quadro indica dove si posizionano i vincitori, non quanto basta per vincere.

Quanto ribassa questo ente rispetto al mercato?

Trend annuale dei ribassi, le gare del campione e, con l'account, il posizionamento della tua offerta su questa gara.

Stazione appaltante

ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA

CF 97329350587VERIFICATA · ANAC

ProvinciaGenova

Profilo committente

ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA · 4040 gare aggiudicate

Come aggiudica questo committente?

Ribassi accettati, tempi di aggiudicazione e fornitori ricorrenti: in demo apriamo il profilo completo proprio su questa gara.

Documenti & riferimenti

Come si posiziona la tua impresa su questa gara?

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